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PS版曬版機,二次曝光.采用強力雙層雙回路抽氣方式，真空由中央向四周均勻擴散，抽氣速度比一般曬版機提高70%（任何版材1分鐘內均可達到曝光要求），網點不失真,光均勻度達到96%以上。
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