雞西Nicrofer5520Co化學氣相沉積罩式爐用鎳基合金

最大工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求

KAYDON凱登化學氣相沉積系統專用軸承-KAYDON凱登蝕刻系統專用軸承軸承軸15318861659（宋小?。?

HKCVD-1200由開啟式單（雙）溫區管式爐、高真空擴散泵系統、壓強控制儀及多通道高精度數字質量流量控制系統組成。可實現真空達0.001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。

主要用途：CNT生產的CVD（真空化學氣相沉積爐）是一種用于在基片上生成高質量TiC、SiC、SiO2、Si3

儀器廣泛應用于微電子、光電、納米技術、LED、平板顯示、材料、有機電子、光伏、玻璃鍍膜、生物學、生命科學、等研發領域。

SM型石墨爐，發熱元件為石墨成分，高真空高溫度，常用溫度2000度，碳化-氣相沉積爐

1 CVD系統可以制備高質量，大面積石墨烯等碳材料，尺寸可達數厘米，研究動力學過程 2 CVD系統沉積效率高；薄膜的成分精確可控，配比范圍大；厚度范圍廣，由幾百埃至數毫米，可以實現厚膜沉積且能大量生產

高溫石墨化爐，化學氣相沉積爐，真空石墨化爐，碳纖維石墨化爐，真空爐，真空脫脂燒結一體爐，

KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成

高效節能，多功能專用，節省人力！

解決表面磨損的最佳途徑 WS2以分子狀態牢固地與基材結合成一體。 膜厚僅0.5微米。

等離子氣相沉積設備PECVD系統

占地小，性價比高，性能可靠

主要供大學和科研院所用于PECVD方法的科研和教學；