具有理想的電壓陡降特性，有效抑制離子源源頭表面打火。直流疊加脈沖輸出，峰值可達2000V。頻率40kHz，占空比45%~90%。可選擇手動控制/模擬量接口控制，可選配485通訊接口。

考夫曼離子源中空陰極 Hollow Cathodes

寬幅低溫等離子源寬幅線性等離子清洗機廠家直銷

實驗型磁控濺射鍍膜機(直流/中頻/射頻/離子源）利用真空磁控濺射鍍膜方式，可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料。

廠家供應，可定制，質量保證，中性包裝。