溫嶺注塑半導體設備鋁合金3.2307光學性能

半導體玻璃清洗超純水設備采用國際主流先進可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。

半導體行業產品清洗用超純水設備規格主要是分離溶液中的離子范圍，它無需加熱，更沒有相變過程，因此比傳統的方法能耗低。用反滲透裝置，處理工業用水，不耗用大量酸堿，無二次污染，它的運行費用也比較低。反滲透膜分離技術，簡稱RO技術。

采用反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水經濟，環保的超純水制備工藝

北京宏盛達業科技有限公司，非標定制清洗設備，您的要求就是我們的標準！

半導體清洗設備

半導體器件清洗設備

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CSOLARE自成立以來，全力發展半導體及光伏設備制造，是一家專業的半導體濕制程設備生產企業。專業設計制造各類全系列半導體濕制程設備。

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清洗速度快，清洗效果好，清潔度高，工件清潔度一致，對工件表面無損傷。不須人手接觸清洗液，安全可靠對深孔、細縫和工件隱蔽處亦清洗干凈。 清洗精度高，可以強有力的清洗微小的污漬顆粒。

本套系統使用反滲透膜法過濾與EDI脫鹽處理工藝，可以用PLC控制，全自動運行。設備產水量1000升/時，產水電阻率1-18兆歐.厘米