CVD管式氣氛爐適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容器（MLCC）氣氛燒結等實驗。

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現(xiàn)場設備應用進程之間的連接是一種邏輯上的連接，或稱為軟連接。也把這種通信連接稱為虛擬通信關系。

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節(jié)能型井式氣體滲碳爐由爐殼、爐襯、爐蓋升降機構、風機、爐罐、加熱元件及電控系統(tǒng)等組成。主要用于低碳鋼、軸承、齒輪等金屬另件的滲碳，氮碳共滲、淬火熱處理。