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PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理氣相沉積)的縮寫,是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,
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刀具類 TiN(氮化鈦) SKD11 0.5mm不銹鋼 提高9倍以上 模具配件沖棒TiN(氮化鈦) Cr12MoV 低碳鋼板 提高5倍以上
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