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可適應廣泛鍍膜靶材，如：銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料，可以利用濺射工藝進行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復性、致密度、均勻度等特點。全自動控制，配置先進大功率磁控電源，恒流輸出，克服靶中毒。

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