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多弧離子鍍膜設備是一種高效、無害、無污染的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。 真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結合脈沖技術及磁控濺射技