半導體超純水設備采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的二級反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm

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半導體行業產品清洗用超純水設備規格主要是分離溶液中的離子范圍，它無需加熱，更沒有相變過程，因此比傳統的方法能耗低。用反滲透裝置，處理工業用水，不耗用大量酸堿，無二次污染，它的運行費用也比較低。反滲透膜分離技術，簡稱RO技術。

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采用反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水經濟，環保的超純水制備工藝

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